Cleaner
功能介绍
Cleaner应用于显示面板生产工艺制程,主要是去除玻璃基板表面的异物和颗粒
产品应用
涵盖国内外G4.5~G10.5的面板生产工厂,适用于玻璃0.4t~1.4t,0.3t(≤G6)
适应工艺包含INC/UPC,DKC,DIC,BPC,ODF等
技术优势
● 自主研发双刀缝新型风刀,无水残、干燥效果好
● 水平传送、倾斜传送、90°转角传送等多种传送方式可选
● 搭配AP Plasma/EUV,素玻璃接触角<5°,进行有机物清洁
● 厂务纯水直供和设备循环供给相结合,纯水用量低、效率高
● 使用毛刷、二流体喷淋、超声波清洗等清洗方式,实现<3μm的颗粒去除
Etcher
功能介绍
Etcher应用于显示面板生产工艺制程,主要是利用酸性药液将基板上面的金属薄膜按照一定的图案去除,实现金属线路的成型
产品应用
涵盖国内外G4.5~G10.5的面板生产工厂,适用于玻璃0.4t~1.4t,0.3t(≤G6)
适用工艺包含ITO刻蚀、Al刻蚀、Cu刻蚀、Rework等
技术优势
● 稳定可控的温度控制系统,定向管控工艺温度
● 多角度摇摆喷淋方式,蚀刻均匀性高、药液利用率高
● 搭配EMS药液分析系统,实时在线精准把控药液成分
● 触摸屏+PLC控制安全保护,具有液位保护、漏液漏电保护等
● 稳定高速的药液置换供给系统,实现不停机药液供给的置换,产能高、药液利用率高
Stripper
功能介绍
Stripper应用于显示面板生产工艺制程,主要是在蚀刻制程完成后,将多余的蚀刻保护膜层(即残留的光刻胶)进行化学药液剥离
产品应用
涵盖国内外G4.5~G10.5的面板生产工厂,适用于玻璃0.4t~1.4t,0.3t(≤G6)
适用工艺包含Array,Rework等
技术优势
● 稳定可控的温度控制系统,定向管控工艺温度
● 搭配RMS药液分析系统,实时在线精准把控药液成分
● 触摸屏+PLC控制安全保护,具有液位保护、漏液漏电保护等
● 常高压结合喷淋,实现对基板的润湿、冲刷和冲洗,去除残留光刻胶
● 相互独立且具有循环补液功能的药液供给系统,产能高、药液利用率高
功能介绍
Batch Cleaner应用于半导体和太阳能光伏行业生产工艺制程,是以Si Wafer的Etching,Cleaning,Rinse,Dry为目的的清洗设备
产品应用
涵盖国内外6~12英寸的半导体晶圆生产工厂,应用于半导体先进集成电路领域晶圆的清洗、刻蚀、光刻胶去除等工艺和太阳能光伏行业领域晶圆的制绒、刻蚀、去挠度等工艺制程
技术优势
● 可同时对应25或50片进行工艺,效率高、产能大、片间一致性好
● 稳定高速的智能化机械手搬运系统,安全性高
● 可选配兆声波系统、管路防静电、 IPA干燥等配置
● 触摸屏+PLC控制安全保护,具有液位保护、漏液漏电保护等
● 可提供多个槽体进行化学药液或纯水,结合喷淋、溢流、快速冲洗等清洗方式